uv光催化氧化設備采用世界上較_技術理念,通過_及我公司工程技術人員長期反復的試驗,開發研制出的,具有自主知識產權的高科技凈化產品可分解工業廢氣中有毒有害物質,并能達到脫臭、凈化效果,經分解后的工業廢氣,可達到化排放,不產生二次污染,同時達到的作用。
uv光催化氧化設備采用高強度納米紫外線破壞、分解大分子鏈為小分子鏈,再利用臭氧和羥基自由基氧化、催化劑進行催化氧化,使有機物變為水和二氧化碳,以達到去除有機物的目的。
半導體光催化劑大多是n型半導體材料(當前以TiO2使用廣泛)都具有區別于金屬或絕緣物質的特別的能帶結構,即在一個價帶和導帶之間存在一個禁帶。
由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有很強的氧化性,能將絕大多數的有機物氧化至產物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能分解。
uv光催化氧化設備性能優勢
1、除惡臭:能去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效果大大_1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。
2、無需添加_物質:只需要設置相應的排風管道和排風動力,使惡臭/工業廢氣通過本設備進行脫臭分解凈化,無需添加_物質參與化學反應。
3、適應性強:GY-系列惡臭氣體(工業廢氣)UV光解廢氣凈化設備可適應高濃度,大氣量,不同工業廢氣物質的脫臭、凈化處理,可每天24小時連續工作,運行穩定可靠。
4、運行成本低:GY-系列惡臭氣體(工業廢氣)UV光解廢氣凈化設備無_機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,本設備能耗低,設備風阻級低<50pa,可節約大量排風動力能耗。
5、設備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等條件,設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。
6、進口材料制造:防火性能高,設備性能穩定,采用不銹鋼材質,設備使用壽命在十五年以上。
7、防爆認證產品:設備具有、防爆特性,已通過防爆電器產品質量監督檢驗中心的Ex防爆合格認證(證書編號:CNEx13.0792 X),能廣泛應用于采油(氣)田、石油化工、制藥等防爆要求高的行業。